HiPIMS

大功率脉冲

磁控溅射

HiPIMS HIGH POWER IMPULSE MAGNETRON SPUTTERING
真空应用解决方案提供商
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High power impulse magnetron sputtering coating system HiPIMS溅射涂层系统

      HiPIMS-800结合了经典直流溅射镀膜系统的所有优点和最新的HiPIMS技术的能力。该系统共配备六个溅射阴极,其中四个可以在HIPIMS或DC模式下工作。另外两个直流阴极可以操作,例如,提供更复杂的多层涂层,提供颜色和顶层涂层,或只是增加沉积速率。这些技术在一个过程中的绝对自由组合,以非常低的生产成本提供了有限的涂层设计范围。在纯HiPIMS模式下,沉积速率为2μm/h,处理时间为4-5小时。当所有6个阴极同时工作时,可达到3μm/h。这是迄今为止1.800圆柄工具或5.000可转位刀片涂层容量的难以置信的低生产时间。

      HiPIMS-800能够沉积所有可用的HCVAC溅射涂层和市场上几乎所有的PVD涂层。此外,它是开发定制流程的理想机器??突в押糜没Ы缑妗笆菔油肌焙图晒婊ぞ摺笆菁苹庇兄谏杓频ザ赖耐坎憬饩龇桨?。您的涂层将使您的产品在市场上脱颖而出,让用户获得竞争优势。其他功能,如用户友好的平板电脑和手机远程控制,便于维护的组件,全自动阴极百叶窗,自动关门和快速更换涂层台的装置使HiPIMS-800成为生产和开发最先进的高性能涂层的最佳涂层系统。


主要???/span>
Arc HiPIMS
创新的APA蒸发器技术(先进的等离子辅助)基于阴极真空电弧,为新的层结构提供了多种开发可能性。
优势:
●靶材使用率高,降低靶材成本
●沉积率高
●磁场可调节
●靶材更换时间短
●等离子体密度高
●等离子体密度高
●完美的涂层结合力
HiPIMS代表高功率脉冲磁控溅射。
优势:
●电离率高(类似于电弧法)
●高功率密度,从 100 到1000 W/cm2
●等离子密度非常高
●可以通过等离子参数设置来调节层结构
●涂层非常光滑
●完美的涂层结合力
●在低基材温度下沉积致密的涂层
其他???/span>
溅射 氮化
在溅射工艺中,通过高能离子(Ar)轰击靶材,分离成原子进而转化成气相。通过结合溅射材料和其他气体,将涂层沉积在基材上。
优势:
●可以溅射多种材料
●多种工艺变量可用
●光滑的涂层
●结合功率刻蚀工艺AEGD获得好的涂层结合力
使用氮化???,可在同一个系统、同一个批次,在PVD和/或PACVD涂层工艺之前进行等离子氮化工艺。由此生成一个硬化层,为后续的PVD/PACVD涂层提供完美的支撑。
优势:
●优化工具和零部件属性
●替代昂贵的基材
●显著延长寿命
●可以应用所有PVD涂层
DLC ta-C
DLC就是类金刚石涂层,指一系列具有超低摩擦系数的非晶碳涂层。使用DLC???,可以通过使用PVD和/或PACVD工艺来生成不同的DLC涂层。标准DLC涂层包括不含金属或含金属的碳基涂层。
优势:
●完美的涂层结合力
●高耐磨性
●低摩擦系数
●光滑的涂层
ta-C 就是不含氢的四面体非晶碳,指的是一组极硬、低摩擦的非晶碳涂层。使用ta-C??榭梢陨煌膖a-C涂层。
优势:
●适用于比DLC更高的温度环境
●非常高的耐磨性
●完美的涂层结合力
●光滑的涂层

Product Advantage.

产品特点
HiPIMS-800大功率脉冲磁控溅射涂层系统包括以下关键功能:
  • 最高效率

    沉积速率高达2μm/小时

  • 一致性

    整个腔室中均匀的镀膜沉积速率

  • 最大吞吐量

    纯HiPIMS AlTiN的工艺周期为4小时30分钟

  • 快速

    转换时间最短,覆盖新的涂层材料和其他工具类型/批次

  • 全自动

    全自动,低维护要求

  • 监控

    本地或远程监控镀膜过程

型号 HiPIMS-800
镀膜范围 ?400mm x 400mm
基板表 ?400mm x?130mm x 6
快速批量更换表 可选的
溅射阴极 6 x 500(包括4个可选的HiPIMS/DC和另外2个DC;所有阴极均配有百叶窗)
最大基板尺寸?x h ?400mm x 800mm
钻孔能力?6 mm x 60 mm 1800个
插入容量12.7 mm x 3.5 mm 4920个
最大工件重量 250KG
沉积速率 在纯HiPIMS模式下,2微米/小时。
在DC或combi模式下,最高可达3微米/小时。
循环时间* 4.5H
过程 HiPIMS和使用助推器技术的溅射。
所有已确定的氟氯烃涂层都是可能的。
基板预处理(等离子蚀刻) 增压器,MF和HiPIMS,蚀刻
导电涂料
非导电涂层
非导电基板
额定功率 80Kw
每批3微米涂层的功耗* 120kWh
外形尺寸 1450mm x 3350mm x 2200mm
重量 约3500Kg
舱门关闭 自动关闭
*10 mm铣刀纯HiPIMS涂层
型号 HCSH-400
有效等离子区域 D400×H450mm
最高工作温度 550℃
技术特点 PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
预处理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
阴极 D120 / D160 / W125
真空条件 极限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工艺周期 关门到开门4~5h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
设备配置 磁悬浮分子泵
脉冲偏压电源
PC智能控制系统
标准转架 D140×4轴
最大装载量 200KG
备注 选用溅射(UBM,RF等)有效高度会适当减小
在线服务支持系统

Application cases.

应用案例
型号 HCSH-650
有效等离子区域 D650×H750mm
最高工作温度 550℃
技术特点 PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
预处理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
阴极 D120 / D160 / W125
真空条件 极限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工艺周期 关门到开门5~8h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
设备配置 磁悬浮分子泵
脉冲偏压电源
PC智能控制系统
标准转架 D140×8轴
最大装载量 500KG
备注 选用溅射(UBM,RF等)有效高度会适当减小
在线服务支持系统
型号 HCSH-900
有效等离子区域 D900×H1200mm
最高工作温度 550℃
技术特点 PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
预处理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
阴极 D120 / D160 / W125
真空条件 极限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工艺周期 关门到开门7~10h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
设备配置 磁悬浮分子泵×2
脉冲偏压电源
PC智能控制系统
标准转架 D140×12轴
最大装载量 500KG
备注 选用溅射(UBM,RF等)有效高度会适当减小
在线服务支持系统
型号 HCSH-1800
有效等离子区域 D900×H1500mm
最高工作温度 550℃
技术特点 PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
预处理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
阴极 D120 / D160 / W125
真空条件 极限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工艺周期 关门到开门7~10h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
设备配置 磁悬浮分子泵×2
脉冲偏压电源
PC智能控制系统
标准转架 D140×12轴
最大装载量 500KG
备注 选用溅射(UBM,RF等)有效高度会适当减小
在线服务支持系统

Application cases.

应用案例
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电话:13316689188

邮箱:office@hcvac.com

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