功能涂层解决方案

Solution
光掩膜版(铬版)方案
客户群体

半导体及相关配套生产厂商、PVD镀膜加工企业

项目方案

为企业提供PVD镀膜设备和镀膜工艺技术

针对半导体行业产品的特点和不断增长的客户需求,不断开发出多种设备技术和镀膜工艺

Solutions and advantages.

解决方案及优势

光掩膜是刻有微电路的高精度版,由表面纯平并带有一层铬的石英板或玻璃板制作而成,蚀刻后的残留铬部分即为设计的微电图。这种制版方式在掩膜行业称为光透。

光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成电路)芯片,还应用于制作纯平显示器、薄膜磁头以及PC板等。

光掩膜所起的作用类似于底片之于相片,光刻通过光掩膜在芯片上显影。如果图形通过掩膜版在芯片两面多次显影,这种方法就是熟称的曝光,这个时候的掩膜也可称为光罩。

在平整的玻璃板上镀上金属铬薄膜,通过类似照相制版的方法制备,其制作过程就是典型的光刻工艺过程,包括金属PVD沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。

铬版主要应用于:

TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板显示行业;

HDI、FPC等印制线路板行业;

IC Bumping、IC基板、导线架等IC相关行业;

MENS、SENSOR和ENODER等精细电子元器件行业。

Project site.

项目现场

镀膜现场

镀膜现场

镀膜现场

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电话:13316689188

邮箱:office@hcvac.com

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